Printability of substrate and absorber defects on extreme ultraviolet lithographic masks

• 資料種別: 規格・テクニカルリポート類
• タイトル: Printability of substrate and absorber defects on extreme ultraviolet lithographic masks
• 著者・編者: Nguyen, K. B; Ray-Chaudhuri, A. K; Tichenor, D. A; Stulen, R. H; Nissen, R. P
• 出版年月日等: 1995
• 出版年（W3CDTF）: 1995
• 数量: 9 p. (1 microfiche)
• 資料種別（注記）: [microform]
• リポート番号: テクニカルリポート番号 : SAND-95-8554C; テクニカルリポート番号 : DE95 010916; テクニカルリポート番号 : CONF-95022647
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: LS-DE95/010916
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000005521451; http://id.ndl.go.jp/bib/000005521451
• 整理区分コード: 291