Plasma chemistries for dry etching GaN, AlN, InGaN and InAlN

• 資料種別: 規格・テクニカルリポート類
• タイトル: Plasma chemistries for dry etching GaN, AlN, InGaN and InAlN
• 著者・編者: Pearton, S. J; Vartuli, C. B; Lee, J. W; Donovan, S. M; MacKenzie, J. D
• 出版年月日等: 1996
• 出版年（W3CDTF）: 1996
• 数量: 6 p. (1 microfiche)
• 資料種別（注記）: [microform]
• リポート番号: テクニカルリポート番号 : SAND-96-0901C; テクニカルリポート番号 : DE96 008879; テクニカルリポート番号 : CONF-9604012
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: LS-DE96/008879
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000005775431; http://id.ndl.go.jp/bib/000005775431
• 整理区分コード: 291