規格・テクニカルリポート類

Effects of ion beam mixing on the formation of SiGe nanocrystals by ion implantation CONF-9606110-2 DE96 012342

規格・テクニカルリポート類を表すアイコン

Effects of ion beam mixing on the formation of SiGe nanocrystals by ion implantation

CONF-9606110-2 DE96 012342

国立国会図書館請求記号
LS-DE96/012342
国立国会図書館書誌ID
000005857889
資料種別
規格・テクニカルリポート類
著者
Zhu, J. Gほか
出版者
-
出版年
1996
資料形態
マイクロ
ページ数・大きさ等
5 p. (1 microfiche)
NDC
-
すべて見る

書店で探す

全国の図書館の所蔵

国立国会図書館以外の全国の図書館の所蔵状況を表示します。

所蔵のある図書館から取寄せることが可能かなど、資料の利用方法は、ご自身が利用されるお近くの図書館へご相談ください

その他

書誌情報

この資料の詳細や典拠(同じ主題の資料を指すキーワード、著者名)等を確認できます。

マイクロ

資料種別
規格・テクニカルリポート類
著者・編者
Zhu, J. G
White, C. W
Budai, J. D
Withrow, S. P
Henderson, D. O
出版年月日等
1996
出版年(W3CDTF)
1996
数量
5 p. (1 microfiche)
資料種別(注記)
[microform]
リポート番号
テクニカルリポート番号 : CONF-9606110-2
テクニカルリポート番号 : DE96 012342
所蔵機関
国立国会図書館
請求記号
LS-DE96/012342