Results of the Monte Carlo calculation of one- and two-dimensional distributions of particles and damage : ion implanted dopants in silicon / John Albers

• 資料種別: 図書
• タイトル: Results of the Monte Carlo calculation of one- and two-dimensional distributions of particles and damage : ion implanted dopants in silicon / John Albers
• シリーズタイトル: NBS special publication ; 400-79; Semiconductor measurement technology
• 著者標目: Albers, John; United States. Defense Advanced Research Projects Agency; United States. National Bureau of Standards
• 出版年（W3CDTF）: 1987
• 数量: microfiche
• 大きさ: 11 × 15 cm
• 出版地（国名コード）: US
• 本文の言語コード: eng
• 資料種別（注記）: [microform]
• 件名標目: Semiconductor doping -- Computer simulation; Ion implantation -- Computer simulation; Monte Carlo method
• 一般注記: Distributed to depository libraries in microfiche; No longer available for sale by the Supt. of Docs; "September 1987."; Physical description for original version: iv, 667 p. : 28 cm
• 書誌注記: Includes bibliographical references (p. 24-26)
• 原資料等に関する注記: 原資料の出版事項: Gaithersburg, MD : U.S. Dept. of Commerce, National Bureau of Standards, 1987; SUPTDOC番号: C 13.10: 400-79; GPO管理番号: 247 (MF)
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: YCA-C 13.10:400-79
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000006556816; http://id.ndl.go.jp/bib/000006556816
• GPO番号: 90009325
• 整理区分コード: 281