TEOS-CVDプロセスにおけるイオン化成膜技術の確立

• 資料種別: 図書
• タイトル: TEOS-CVDプロセスにおけるイオン化成膜技術の確立
• タイトルよみ: TEOS-CVD プロセス ニ オケル イオン カセイマク ギジュツ ノ カクリツ
• 著者・編者: 足立, 元明, 大阪府立大学
• 著者標目: 足立, 元明 アダチ, モトアキ
• 出版年月日等: 1993-1994
• 出版年（W3CDTF）: 1993
• 数量: 冊
• その他のタイトル: 研究種目 一般研究(C)
• 件名標目: CVD CVD; 薄膜 ハクマク; イオン分子反応 イオンブンシハンノウ; イオン核生成 イオンカクセイセイ; TEOS TEOS; クラスターイオン クラスターイオン; ナノサイズ超微粒子 ナノサイズチヨウビリユウシ; 選択成長 センタクセイチヨウ
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 05650769
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H05650769
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000006993125; http://id.ndl.go.jp/bib/000006993125
• 整理区分コード: 214