照射損傷組織に及ぼす照射速度および析出物の影響

• 資料種別: 図書
• タイトル: 照射損傷組織に及ぼす照射速度および析出物の影響
• タイトルよみ: ショウシャ ソンショウ ソシキ ニ オヨボス ショウシャ ソクド オヨビ セキシュツブツ ノ エイキョウ
• 著者・編者: 木下, 博嗣, 北海道大学
• 著者標目: 木下, 博嗣 キノシタ, ヒロシ
• 出版年月日等: 1995-1997
• 出版年（W3CDTF）: 1995
• 数量: 冊
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(C)
• 件名標目: 電子線照射 デンシセンシヨウシヤ; SUS304 SUS304; 損傷速度 ソンシヨウソクド; Heイオン HEイオン; 粒界偏析 リユウカイヘンセキ
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 07650752
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H07650752
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007007298; http://id.ndl.go.jp/bib/000007007298
• 整理区分コード: 214