高品質極薄Si系絶縁膜の低温形成と機能評価に関する研究

• 資料種別: 図書
• タイトル: 高品質極薄Si系絶縁膜の低温形成と機能評価に関する研究
• タイトルよみ: コウヒンシツ ゴクウス Si ケイ ゼツエンマク ノ テイオン ケイセイ ト キノウ ヒョウカ ニ カンスル ケンキュウ
• 著者・編者: 中島, 寛, 九州大学
• 著者標目: 中島, 寛 ナカシマ, ヒロシ
• 出版年月日等: 1997-1998
• 出版年（W3CDTF）: 1997
• 数量: 冊
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(C)
• 件名標目: シリコン シリコン; 極薄絶縁膜 ゴクウスゼツエンマク; ECRプラズマ ECRプラズマ; 低温薄膜形成 テイオンハクマクケイセイ; 電気的機能性 デンキテキキノウセイ; スパツタリング スパツタリング
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 09650363
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H09650363
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007020179; http://id.ndl.go.jp/bib/000007020179
• 整理区分コード: 214