光電子回折による金属/絶縁体薄膜界面反応プロセスの研究

• 資料種別: 図書
• タイトル: 光電子回折による金属/絶縁体薄膜界面反応プロセスの研究
• タイトルよみ: コウデンシ カイセツ ニ ヨル キンゾク/ゼツエンタイ ハクマク カイメン ハンノウ プロセス ノ ケンキュウ
• 著者・編者: 石井秀司, 東京大学
• 著者標目: 石井, 秀司 イシイ, ヒデジ
• 出版年月日等: 1997-1998
• 出版年（W3CDTF）: 1997; 1998
• 数量: 冊
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(C)
• 件名標目: 光電子回析 コウデンシカイセキ; 金属/絶縁体 界面 キンゾク/ゼツエンタイカイメン; 薄膜界面構造 ハクマクカイメンコウゾウ; 化学状態 カガクジヨウタイ; 酸化物 サンカブツ; 構造解析 コウゾウカイセキ; シンクロトロン放射 シンクロトロンホウシヤ; エピタキシヤル薄膜 エピタキシヤルハクマク
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 09650886
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H09650886
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007020528; http://id.ndl.go.jp/bib/000007020528
• 整理区分コード: 214