表面吸着子の電子励起状態の研究

• 資料種別: 図書
• タイトル: 表面吸着子の電子励起状態の研究
• タイトルよみ: ヒョウメン キュウチャクコ ノ デンシレイキジョウタイ ノ ケンキュウ
• 著者・編者: 村田, 好正, 東京大学
• 著者標目: 村田, 好正 ムラタ, ヨシタダ
• 出版年月日等: 1986-1988
• 出版年（W3CDTF）: 1986
• 数量: 冊
• その他のタイトル: 研究種目 一般研究(A)
• 件名標目: 金属表面 キンゾクヒヨウメン; 化学吸着 カガクキユウチヤク; 光刺激イオン脱離 ヒカリシゲキイオンダツリ; ArFエキシマレーザー ARFエキシマレーザー; 多光子過程 タコウシカテイ; 超低速イオン散乱 チヨウテイソクイオンサンラン; イオン中性化 イオンチユウセイカ
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 61430005
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-S61430005
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007026522; http://id.ndl.go.jp/bib/000007026522
• 整理区分コード: 214