UHF帯プラズマを用いた次世代大口径機能性薄膜プロセスの開発

• 資料種別: 図書
• タイトル: UHF帯プラズマを用いた次世代大口径機能性薄膜プロセスの開発
• タイトルよみ: UHF タイ プラズマ オ モチイタ ジセダイ ダイコウケイ キノウセイ ハクマク プロセス ノ カイハツ
• 著者・編者: 後藤, 俊夫, 名古屋大学
• 著者標目: 著者 ： 後藤, 俊夫, 1941- ゴトウ, トシオ, 1941- ( 00292248 )典拠
• 出版年月日等: 1997-1999
• 出版年（W3CDTF）: 1997
• 数量: 冊
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(A)
• 件名標目: プラズマ プラズマ; CVD CVD; 薄膜 ハクマク; UHF UHF; ラジカル ラジカル; 多結晶シリコン タケツシヨウシリコン; プロセス プロセス
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 09355002
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H09355002
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007055628; http://id.ndl.go.jp/bib/000007055628
• 整理区分コード: 214