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複合反応場を用いるイオン導伝性薄膜形成の研究

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複合反応場を用いるイオン導伝性薄膜形成の研究

国立国会図書館請求記号
Y151-H09650815
国立国会図書館書誌ID
000007057337
資料種別
図書
著者
不破, 章雄, 早稲田大学
出版者
-
出版年
1997-1999
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
フクゴウ ハンノウジョウ オ モチイル イオン ドウデンセイ ハクマク ケイセイ ノ ケンキュウ
著者・編者
不破, 章雄, 早稲田大学
著者標目
不破, 章雄 フワ, アキオ
出版年月日等
1997-1999
出版年(W3CDTF)
1997
数量
その他のタイトル
研究種目 基盤研究(C)
件名標目
YSZ YSZ
薄膜 ハクマク
MOCVD MOCVD
導電率 ドウデンリツ
結晶構造 ケツシヨウコウゾウ