レーザ・プラズマプロセス開発による先端材料・デバイスの創製

• 資料種別: 図書
• タイトル: レーザ・プラズマプロセス開発による先端材料・デバイスの創製
• タイトルよみ: レーザ ・ プラズマプロセス カイハツ ニ ヨル センタン ザイリョウ ・ デバイス ノ ソウセイ
• 著者・編者: 蛯原, 健治, 熊本大学
• 著者標目: 蛯原, 健治 エビハラ, ケンジ
• 出版年月日等: 1998-2000
• 出版年（W3CDTF）: 1998
• 数量: 冊
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(B)
• 件名標目: レーザーアブレーシヨン レーザーアブレーシヨン; プラズマ プラズマ; ヘテロ構造薄膜 ヘテロコウゾウハクマク; 強誘電体 キヨウユウデンタイ; 酸化物高温超電導体 サンカブツコウオンチヨウデンドウタイ; ダイヤモンド薄膜 ダイヤモンドハクマク; 不揮発性メモリー フキハツセイメモリー; 巨大磁気抵抗 キヨダイジキテイコウ
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 10045046
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H10045046
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007070830; http://id.ndl.go.jp/bib/000007070830
• 整理区分コード: 214