X線回折法を用いたSiO2/Si界面形成のその場観察による酸化機構の研究

• 資料種別: 図書
• タイトル: X線回折法を用いたSiO2/Si界面形成のその場観察による酸化機構の研究
• タイトルよみ: Xセン カイセツホウ オ モチイタ SiO2/Si カイメン ケイセイ ノ ソノ バ カンサツ ニ ヨル サンカ キコウ ノ ケンキュウ
• 著者・編者: 梅野, 正隆, 大阪大学
• 著者標目: 梅野, 正隆 ウメノ, マサタカ
• 出版年月日等: 1999-2001
• 出版年（W3CDTF）: 1999
• 数量: 冊
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(B)
• 件名標目: SiO2 SIO2; シリコン シリコン; 酸化 サンカ; 薄膜 ハクマク; 界面 カイメン; X線回折 Xセンカイセツ
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 11450014
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H11450014
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007077640; http://id.ndl.go.jp/bib/000007077640
• 整理区分コード: 214