図書

ゲル薄膜/セラミツク薄膜変換過程における応力発生機構の解明

図書を表すアイコン

ゲル薄膜/セラミツク薄膜変換過程における応力発生機構の解明

国立国会図書館請求記号
Y151-H12650679
国立国会図書館書誌ID
000007077968
資料種別
図書
著者
幸塚, 広光, 関西大学
出版者
-
出版年
2000-2001
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
すべて見る

資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

書店で探す

書誌情報

この資料の詳細や典拠(同じ主題の資料を指すキーワード、著者名)等を確認できます。

資料種別
図書
タイトルよみ
ゲル ハクマク/セラミツク ハクマク ヘンカン カテイ ニ オケル オウリョク ハッセイ キコウ ノ カイメイ
著者・編者
幸塚, 広光, 関西大学
著者標目
著者 : 幸塚, 広光, 1959- コウズカ, ヒロミツ, 1959- ( 01108076 )典拠
出版年月日等
2000-2001
出版年(W3CDTF)
2000
数量
その他のタイトル
研究種目 基盤研究(C)
件名標目
ゾルーゲル法 ゾルーゲルホウ
強誘電体 キヨウユウデンタイ
圧電体 アツデンタイ
薄膜 ハクマク
チタン酸バリウム チタンサンバリウム
PZT PZT
応力 オウリヨク
膜厚 マクアツ