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形状安定な傾斜構造セラミツク薄膜基板作製のための最適焼結条件の理論化とその実証

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形状安定な傾斜構造セラミツク薄膜基板作製のための最適焼結条件の理論化とその実証

国立国会図書館請求記号
Y151-H12650727
国立国会図書館書誌ID
000007078003
資料種別
図書
著者
品川, 一成, 香川大学
出版者
-
出版年
2000-2001
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
ケイジョウ アンテイ ナ ケイシャ コウゾウ セラミツク ハクマク キバン サクセイ ノ タメ ノ サイテキ ショウケツ ジョウケン ノ リロンカ ト ソノ ジッショウ
著者・編者
品川, 一成, 香川大学
著者標目
品川, 一成 シナガワ, カズナリ
出版年月日等
2000-2001
出版年(W3CDTF)
2000
数量
その他のタイトル
研究種目 基盤研究(C)
件名標目
傾斜機能材料 ケイシヤキノウザイリヨウ
セラミツクス セラミツクス
焼結 シヨウケツ
薄膜 ハクマク
構成式 コウセイシキ
有限要素解析 ユウゲンヨウソカイセキ