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シリコン基板上へのリチウムイオン積層伝導薄膜の形成と物性評価

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シリコン基板上へのリチウムイオン積層伝導薄膜の形成と物性評価

国立国会図書館請求記号
Y151-H12450016
国立国会図書館書誌ID
000007084454
資料種別
図書
著者
栗山, 一男, 法政大学
出版者
-
出版年
2000-2002
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
シリコン キバン ジョウ ヘ ノ リチウムイオン セキソウ デンドウ ハクマク ノ ケイセイ ト ブッセイ ヒョウカ
著者・編者
栗山, 一男, 法政大学
著者標目
著者 : 栗山, 一男, 1948- クリヤマ, カズオ, 1948- ( 00188790 )典拠
法政大学 ホウセイ ダイガク ( 00261297 )典拠
出版年月日等
2000-2002
出版年(W3CDTF)
2000
数量
その他のタイトル
研究種目 基盤研究(B)
件名標目
リチウムマンガン酸化物 リチウムマンガンサンカブツ
リチウムコバルト酸化物 リチウムコバルトサンカブツ
ゾル-ゲル薄膜成長 ゾル-ゲルハクマクセイチヨウ
シリコン基板 シリコンキバン
シリコン酸化物固体電解質 シリコンサンカブツコタイデンカイシツ
3d準位 3Dジユンイ
Mott型電気伝導 MOTTガタデンキデンドウ
ラマン活性モ-ド ラマンカツセイモ-ド