シリコンクラスタ-の表面反応と薄膜成長過程の分子シミユレ-シヨン

• 資料種別: 図書
• タイトル: シリコンクラスタ-の表面反応と薄膜成長過程の分子シミユレ-シヨン
• タイトルよみ: シリコンクラスタ- ノ ヒョウメン ハンノウ ト ハクマク セイチョウ カテイ ノ ブンシ シミユレ-シヨン
• 著者・編者: 丸山, 茂夫, 東京大学
• 著者標目: 丸山, 茂夫 マルヤマ, シゲオ
• 出版年月日等: 2000-2002
• 出版年（W3CDTF）: 2000
• 数量: 冊
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(B)
• 件名標目: 薄膜成長過程 ハクマクセイチヨウカテイ; シリコンクラスタ- シリコンクラスタ-; 分子シミユレ-シヨン ブンシシミユレ-シヨン; 化学反応 カガクハンノウ; FT-ICR質量分析装置 FT-ICRシツリヨウブンセキソウチ
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 12450082
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H12450082
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007084476; http://id.ndl.go.jp/bib/000007084476
• 整理区分コード: 214