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Report on a pulsed slow positron beam apparatus and its application to thin po lymer films : 高分子・金属多層薄膜界面評価装置の開発-短パルス化低 速陽電子ビ-ム装置の開発

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Report on a pulsed slow positron beam apparatus and its application to thin po lymer films : 高分子・金属多層薄膜界面評価装置の開発-短パルス化低 速陽電子ビ-ム装置の開発

国立国会図書館請求記号
Y151-H12555270
国立国会図書館書誌ID
000007085270
資料種別
図書
著者
鈴木, 健訓, 高エネルギ-加速器研究機構
出版者
-
出版年
2000-2002
資料形態
ページ数・大きさ等
-
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

文部省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
Report on a pulsed slow positron beam apparatus and its application to thin po lymer films
著者・編者
鈴木, 健訓, 高エネルギ-加速器研究機構
著者標目
鈴木, 健訓 スズキ, タケノリ
出版年月日等
2000-2002
出版年(W3CDTF)
2000
数量
その他のタイトル
研究種目 基盤研究(B)
件名標目
陽電子消滅 ヨウデンシシヨウメツ
ポジトロニウム ポジトロニウム
パルス化 パルスカ
薄膜 ハクマク
高分子 コウブンシ
多層膜 タソウマク
多層膜境界面 タソウマクキヨウカイメン
低速陽電子 テイソクヨウデンシ