A study of wear-out and breakdown phenomena in thin silicon dioxide films and the evaluation techniques

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: A study of wear-out and breakdown phenomena in thin silicon dioxide films and the evaluation techniques
• 著者・編者: Koji Eriguchi [著]
• 著者標目: 江利口, 浩二 エリグチ, コウジ
• 出版事項: [Koji Eriguchi]
• 出版年月日等: 2003
• 出版年（W3CDTF）: 2003
• 数量: 1冊
• 並列タイトル等: 薄膜シリコン酸化膜の劣化・破壊機構及びその評価手法に関する研究 ハクマク シリコン サンカマク ノ レッカ ハカイ キコウ オヨビ ソノ ヒョウカ シュホウ ニ カンスル ケンキュウ
• 授与機関名: 京都大学
• 授与年月日: 平成16年1月23日
• 授与年月日（W3CDTF）: 2004
• 報告番号: 乙第11362号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: eng
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-2004-C110
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007367125; http://id.ndl.go.jp/bib/000007367125
• 整理区分コード: 213