Advances in resist technology and processing 21 : 23-24 February 2004 : Santa Clara, California, USA. : Feb 2004, Santa Clara, CA. (SPIE Proceedings ; 5376)

Advances in resist technology and processing 21 : 23-24 February 2004 : Santa Clara, California, USA. : Feb 2004, Santa Clara, CA.

(SPIE Proceedings ; 5376)

国立国会図書館請求記号: M17-04-2824
国立国会図書館書誌ID: 000007424087

資料種別: 図書

著者: Semiconductor Equipment and Materials International (SEMI)ほか

出版者: SPIE

出版年: c2004.

資料形態: 紙

ページ数・大きさ等: 2 parts : ill. ; 28 cm.

NDC: -

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資料に関する注記

一般注記：: Papers.Errata sheets have tipped in part 2.

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書誌情報

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紙

資料種別: 図書
ISBN（セット）: 0819452890 (set)
ISSN（シリーズ）: 0277-786X
タイトル: Advances in resist technology and processing 21 : 23-24 February 2004 : Santa Clara, California, USA. : Feb 2004, Santa Clara, CA.
シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 5376
タイトル標目: Proceedings of SPIE -- the International Society for Optical Engineering ; v. 5376.
著者標目: Semiconductor Equipment and Materials International (SEMI)
Sturtevant, John L.
International SEMATECH.
出版事項: Bellingham : SPIE
出版年月日等: c2004.
出版年（W3CDTF）: 2004
数量: 2 parts : ill. ; 28 cm.
出版地（国名コード）: US
本文の言語コード: eng
件名標目: Photoresists -- Congresses.
Microlithography -- Congresses.
NDLC: M17
一般注記: Papers.
Errata sheets have tipped in part 2.
書誌注記: Includes bibliographical references and author index.
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: M17-04-2824
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 000007424087
http://id.ndl.go.jp/bib/000007424087
RLIN番号: CSUGA5664483-B
整理区分コード: 215