Deposition of Ti and TiN film by ionized PVD using inductively coupled plasma

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: Deposition of Ti and TiN film by ionized PVD using inductively coupled plasma
• 著者・編者: Yoichiro Tanaka [著]
• 著者標目: 田中, 洋一郎 タナカ, ヨウイチロウ
• 出版事項: [Yoichiro Tanaka]
• 出版年月日等: [2004]
• 出版年（W3CDTF）: 2004
• 数量: 1冊
• 並列タイトル等: 誘導結合型プラズマを用いたイオン化PVDによるTi、TiNの成膜に関する研究 ユウドウ ケツゴウガタ プラズマ オ モチイタ イオンカ PVD ニ ヨル Ti TiN ノ セイマク ニ カンスル ケンキュウ
• 授与機関名: 名古屋大学
• 授与年月日: 平成16年2月27日
• 授与年月日（W3CDTF）: 2004
• 報告番号: 乙第6295号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: eng
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-2004-E877
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007425109; http://id.ndl.go.jp/bib/000007425109
• 整理区分コード: 213