LSI内微細銅配線のためのプラズマ異方性CVD

• 資料種別: 図書
• タイトル: LSI内微細銅配線のためのプラズマ異方性CVD
• タイトルよみ: LSIナイ ビサイ ドウ ハイセン ノ タメノ プラズマ イホウセイ CVD
• 著者・編者: 白谷正治, 九州大学 [著]
• 著者標目: 白谷, 正治 シラタニ, マサハル; 九州大学 キュウシュウ ダイガク
• 出版事項: [白谷正治]
• 出版年月日等: 2002-2003; 2004.5
• 出版年（W3CDTF）: 2002; 2003
• 数量: 98p
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(B)
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn; eng
• 件名標目: 銅配線 / プラズマCVD / 異方性成膜 / LSI / 水素原子 / イオン照射 ドウ ハイセン / プラズマ CVD / イカタセイセイマク / LSI / スイソ ゲンシ / イオン ショウシャ
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 14350021
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H14350021
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000007573445; http://id.ndl.go.jp/bib/000007573445
• 整理区分コード: 214