Metrology, inspection, and process control for microlithography 19 : 28 February-3 March 2005 : San Jose, California, USA. : Feb 2005, San Jose, CA. (SPIE Proceedings ; 5752)

Metrology, inspection, and process control for microlithography 19 : 28 February-3 March 2005 : San Jose, California, USA. : Feb 2005, San Jose, CA.

(SPIE Proceedings ; 5752)

国立国会図書館請求記号: M17-05-1769
国立国会図書館書誌ID: 000007805795

資料種別: 図書

著者: International SEMATECH.

出版者: SPIE

出版年: c2005.

資料形態: 紙

ページ数・大きさ等: 3 parts : ill. ; 28 cm.

NDC: -

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一般注記：: Papers and discussions.

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書誌情報

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紙

資料種別: 図書
ISBN（セット）: 0819457329 (set)
ISSN（シリーズ）: 0277-786X
タイトル: Metrology, inspection, and process control for microlithography 19 : 28 February-3 March 2005 : San Jose, California, USA. : Feb 2005, San Jose, CA.
シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 5752
著者標目: International SEMATECH.
出版事項: Bellingham : SPIE
出版年月日等: c2005.
出版年（W3CDTF）: 2005
数量: 3 parts : ill. ; 28 cm.
出版地（国名コード）: US
NDLC: M17
一般注記: Papers and discussions.
書誌注記: Includes bibliographical references and author index.
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: M17-05-1769
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 000007805795
http://id.ndl.go.jp/bib/000007805795
整理区分コード: 215