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最近注目されている薄膜電子材料の成膜法とその評価 (AP ; 032344. 薄膜・表面物理基礎講座 ; 第32回)

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最近注目されている薄膜電子材料の成膜法とその評価

(AP ; 032344. 薄膜・表面物理基礎講座 ; 第32回)

国立国会図書館請求記号
ND371-H115
国立国会図書館書誌ID
000008059788
資料種別
図書
著者
応用物理学会薄膜・表面物理分科会 編
出版者
応用物理学会薄膜・表面物理分科会
出版年
2003.10
資料形態
ページ数・大きさ等
94p ; 26cm
NDC
549.8
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資料に関する注記

一般注記:

会期・会場: 2003年10月30-31日 東京工業大学百年記念館フェライト記念会議室

資料詳細

内容細目:

10月30日 (木)薄膜成長の基礎 / 金原粲 著カーボンナノチューブ / 中山喜萬 著...

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目次

  • プログラム(目次)

  • 「最近注目されている薄膜電子材料の成膜法とその評価」

  • 10月30日(木)

  • 10:45〜12:00 薄膜成長の基礎/ 1

    金原粲(金沢工業大学)

  • 13:00〜14:10 カーボンナノチューブ/ 9

    中山喜万(大阪府立大学・大阪大学)

書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
サイキン チュウモクサレテイル ハクマク デンシ ザイリョウ ノ セイマクホウ ト ソノ ヒョウカ
著者・編者
応用物理学会薄膜・表面物理分科会 編
著者標目
応用物理学会 オウヨウ ブツリ ガッカイ ( 00281497 )典拠
出版年月日等
2003.10
出版年(W3CDTF)
2003
数量
94p