25th annual BACUS symposium on photomask technology : 4-7 October 2005 : Monterey, California, USA. : Oct 2005, Monterey, CA.

• 資料種別: 図書
• ISBN（セット）: 0819460141 (set)
• ISSN（シリーズ）: 0277-786X
• タイトル: 25th annual BACUS symposium on photomask technology : 4-7 October 2005 : Monterey, California, USA. : Oct 2005, Monterey, CA.
• シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 5992
• タイトル標目: Proceedings of SPIE -- the International Society for Optical Engineering. ; v. 5992.
• 著者標目: Weed, J., Tracy.; Martin, Patrick M.; Symposium on Photomask Technology (25th : 2005 : Monterey, California)
• 出版事項: Bellingham : SPIE
• 出版年月日等: c2005.
• 出版年（W3CDTF）: 2005
• 数量: 2 parts : ill. (some col.) ; 28 cm.
• 出版地（国名コード）: US
• 本文の言語コード: eng
• 件名標目: Integrated circuits -- Masks -- Congresses.; Microlithography -- Congresses.
• NDLC: M17
• 一般注記: Papers.
• 書誌注記: Includes bibliographical references and author index.
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: M17-06-516
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000008067565; http://id.ndl.go.jp/bib/000008067565
• RLIN番号: MOHG62762525-B
• 整理区分コード: 215