A study on molecular beam epitaxy and characterization of dilute nitride alloy films and quantum dots

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: A study on molecular beam epitaxy and characterization of dilute nitride alloy films and quantum dots
• 著者・編者: Atsushi Nishikawa [著]
• 著者標目: 西川, 敦 ニシカワ, アツシ
• 出版事項: [Atsushi Nishikawa]
• 出版年月日等: [2005]
• 出版年（W3CDTF）: 2005
• 数量: 1冊
• 並列タイトル等: 分子線エピタキシー法による希薄窒化物系混晶半導体薄膜および量子ドットの作製の研究 ブンシセン エピタキシーホウ ニ ヨル キハク チッカブツケイ コンショウ ハンドウタイ ハクマク オヨビ リョウシ ドット ノ サクセイ ノ ケンキュウ
• 授与機関名: 東京大学
• 授与年月日: 平成17年3月24日
• 授与年月日（W3CDTF）: 2005
• 報告番号: 甲第20464号
• 学位: 博士 (科学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: eng
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-2006-D699
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000008177308; http://id.ndl.go.jp/bib/000008177308
• 整理区分コード: 213