ゲート絶縁膜被覆カーボンナノチューブ作製技術の開拓と量子ナノデバイス応用

• 資料種別: 図書
• タイトル: ゲート絶縁膜被覆カーボンナノチューブ作製技術の開拓と量子ナノデバイス応用
• タイトルよみ: ゲート ゼツエンマク ヒフク カーボン ナノチューブ サクセイ ギジュツ ノ カイタク ト リョウシ ナノデバイス オウヨウ
• 著者・編者: 片山光浩, 大阪大学 [著]
• 著者標目: 片山, 光浩 カタヤマ, ミツヒロ; 大阪大学 オオサカ ダイガク
• 出版事項: [片山光浩]
• 出版年月日等: 2003-2005; 2006.4
• 出版年（W3CDTF）: 2003; 2005
• 数量: 300p
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(A)
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn; eng
• 件名標目: パルスレーザー蒸着法 / カーボンナノチューブ / 化合物被膜 / 多層被膜 / 金属 / 磁性体 / 超伝導 / STM パルスレーザー ジョウチャクホウ / カーボンナノチューブ / カゴウブツ ヒマク / タソウ ヒマク / キンゾク / ジセイタイ / チョウデンドウ / STM
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 15206005
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H15206005
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000008358899; http://id.ndl.go.jp/bib/000008358899
• 整理区分コード: 214