High rate growth and characterization of crystalline silicon films from inductively-coupled SiH4 plasma

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: High rate growth and characterization of crystalline silicon films from inductively-coupled SiH4 plasma
• 著者・編者: Nihan Kosku [著]
• 著者標目: Kosku, Nihan コスク, ニハン
• 出版事項: [Nihan Kosku]
• 出版年月日等: 2005
• 出版年（W3CDTF）: 2005
• 数量: 1冊
• 並列タイトル等: 誘導結合型SiH4プラズマからの高結晶性シリコン薄膜の高速堆積 ユウドウ ケツゴウガタ SiH4 プラズマ カラ ノ コウケッショウセイ シリコン ハクマク ノ コウソク タイセキ
• 授与機関名: 広島大学
• 授与年月日: 平成17年9月6日
• 授与年月日（W3CDTF）: 2005
• 報告番号: 甲第3717号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: eng
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-2006-N46
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000008377015; http://id.ndl.go.jp/bib/000008377015
• 整理区分コード: 213