次世代極薄高誘電率ゲート絶縁膜中の不純物の挙動に関する理論的研究

• 資料種別: 図書
• タイトル: 次世代極薄高誘電率ゲート絶縁膜中の不純物の挙動に関する理論的研究
• タイトルよみ: ジセダイ ゴクウス コウユウデンリツ ゲート ゼツエンマクチュウ ノ フジュンブツ ノ キョドウ ニ カンスル リロンテキ ケンキュウ
• 著者・編者: 白石賢二, 筑波大学 [著]
• 著者標目: 白石, 賢二 シライシ, ケンジ; 筑波大学 ツクバ ダイガク
• 出版事項: [白石賢二]
• 出版年月日等: 2004-2005; 2006.5
• 出版年（W3CDTF）: 2004; 2005
• 数量: 1冊
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(C)
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn; eng
• 件名標目: 高誘電率絶縁膜 / シリコンナノ構造 / 格子欠陥 / 第一原理計算 / Si/SiO_2界面 / High-k絶縁膜/Si界面 / トランジスタ特性 / HfO_2 コウユウデンリツ ゼツエンマク / シリコンナノ コウゾウ / コウシ ケッカン / ダイイチ ゲンリ ケイサン / Si/SiO_2 カイメン / High-k ゼツエンマク/Si カイメン / トランジスタ トクセイ / HfO_2
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 16560020
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H16560020
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000008381076; http://id.ndl.go.jp/bib/000008381076
• 整理区分コード: 214