原子スケールのSi薄膜とAl/Si界面の第一原理的評価

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: 原子スケールのSi薄膜とAl/Si界面の第一原理的評価
• タイトルよみ: ゲンシ スケール ノ Si ハクマク ト Al Si カイメン ノ ダイイチ ゲンリテキ ヒョウカ
• 著者・編者: 清水共 [著]
• 著者標目: 清水, 共 シミズ, トモ
• 出版事項: [清水共]
• 出版年月日等: 2006
• 出版年（W3CDTF）: 2006
• 数量: 1冊
• 授与機関名: 筑波大学
• 授与年月日: 平成18年3月24日
• 授与年月日（W3CDTF）: 2006
• 報告番号: 甲第3920号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-2006-Q584
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000008432499; http://id.ndl.go.jp/bib/000008432499
• 整理区分コード: 213