有機薄膜形成とデバイス応用展開

• 資料種別: 図書
• ISBN: 978-4-88231-985-6
• タイトル: 有機薄膜形成とデバイス応用展開
• タイトルよみ: ユウキ ハクマク ケイセイ ト デバイス オウヨウ テンカイ
• 著者・編者: 大森裕 監修
• 著者標目: 大森, 裕 オオモリ, ユタカ ( 01116971 )典拠
• 出版事項: 東京 : シーエムシー出版
• 出版年月日等: 2008.1
• 出版年（W3CDTF）: 2008
• 数量: 255p
• 大きさ: 27cm
• 並列タイトル等: Recent progress in fabrication of organic thin film and device applications
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: 薄膜 ハクマク ( 00562857 )典拠
• NDC9版: 549.8 : 電子工学
• NDLC: ND371
• NDC（参考図書紹介）: 549.8
• 紹介文（参考図書紹介）: 本書は、薄膜作製技術に関する最新の技術動向を紹介した解説書。「第1章 有機薄膜技術総論」、「第2章 ドライプロセスによる薄膜形成技術とデバイス応用」、「第3章 ウェットプロセスによる薄膜形成技術とデバイス応用」、「第4章 薄膜形成評価」、「第5章 新しい薄膜形成材料」の5章構成。第1章では有機薄膜の作製法と有機デバイス作製への適用例を紹介し、第2章では真空蒸着法による有機EL素子、有機トランジスタの作製(第2章1.及び2.)、物理蒸着法による有機ELの作製(第2章3.)、蒸着重合法による有機薄膜の作製(第2章4.)、エレクトロスプレー法による有機薄膜の作製(第2章5.)などを解説している。第3章では、スピンコート法による有機EL、有機トランジスタの作製(第3章1.及び2.)、インクジェット法による有機ELの作製(第3章3.)などを解説している。第4章では、水晶振動子を用いた薄膜評価(第4章1.)、マックスウェル変位電流(MDC)と光第2次高調波(SHG)による評価(第4章2.)、表面プラズモン(SP)による評価(第4章4.)、核磁気共鳴分光法(NMR)による評価などを概説している。第5章では、アモルファス分子材料(第5章1.)、カーボンナノチューブ(第5章2.)、低分子系有機半導体材料(第5章3.)、非線形光学材料(第5章4.)などを紹介している。
• 対象利用者: 一般
• 書誌注記: 文献あり
• 入手条件・定価: 65000円
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: ND371-J8
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000009257218; http://id.ndl.go.jp/bib/000009257218
• 全国書誌番号: 21373819
• 目録規則: 日本目録規則1987年版改訂版
• 整理区分コード: 111

目次

目次

第1章 有機薄膜技術総論

1 はじめに/ 1

2 有機薄膜の作製法/ 2

2.1 ドライプロセスによる薄膜作製法/ 2