光合成の酸化ストレス傷害とその防御の分子機構

• 資料種別: 図書
• タイトル: 光合成の酸化ストレス傷害とその防御の分子機構
• タイトルよみ: コウゴウセイ ノ サンカ ストレス ショウガイ ト ソノ ボウギョ ノ ブンシ キコウ
• 著者・編者: 西山佳孝, 愛媛大学 [著]
• 著者標目: 西山, 佳孝 ニシヤマ, ヨシタカ; 愛媛大学 エヒメ ダイガク
• 出版事項: [西山佳孝]
• 出版年月日等: 2005-2006; 2007.3
• 出版年（W3CDTF）: 2005; 2006
• 数量: 96p
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(C)
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn; eng
• 件名標目: 光合成 / 光化学系II / 修復 / 酸化ストレス / タンパク質合成 / エロンゲーションファクター / 無細胞タンパク質合成系 / ラン藻 コウゴウセイ / ヒカリカガクケイ II / シュウフク / サンカ ストレス / タンパクシツ ゴウセイ / エロンゲーションファクター / ムサイボウ タンパクシツ ゴウセイケイ / ランソウ
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 17570040
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H17570040
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000009322756; http://id.ndl.go.jp/bib/000009322756
• 整理区分コード: 214