Optical microlithography 21 : 26-29 February 2008 : San Jose, California, USA. : Feb 2008, San Jose, CA.

• 資料種別: 図書
• ISBN（セット）: 9780819471093 (set)
• ISSN（シリーズ）: 0277-786X
• タイトル: Optical microlithography 21 : 26-29 February 2008 : San Jose, California, USA. : Feb 2008, San Jose, CA.
• シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 6924
• タイトル標目: Proceedings of SPIE -- the International Society for Optical Engineering ; v. 6924.
• 著者標目: SEMATECH, Inc.; Levinson, Harry J.; Dusa, Mircea V.
• 出版事項: Bellingham : SPIE
• 出版年月日等: c2008.
• 出版年（W3CDTF）: 2008
• 数量: 3 parts : ill. (some col.) ; 28 cm.
• 出版地（国名コード）: US
• 本文の言語コード: eng
• 件名標目: Integrated circuits -- Masks -- Congresses.; Microlithography -- Congresses.; X-ray lithography -- Congresses.; Manufacturing processes -- Congresses.
• NDLC: M17
• 一般注記: Papers.
• 書誌注記: Includes bibliographical references and author index.
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: M17-08-1467
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000009395152; http://id.ndl.go.jp/bib/000009395152
• OCLC番号: 229163483; https://www.worldcat.org/oclc/229163483
• 整理区分コード: 215