20nm技術LSI用Cu配線材料の研究

• 資料種別: 図書
• タイトル: 20nm技術LSI用Cu配線材料の研究
• タイトルよみ: 20nm ギジュツ LSIヨウ Cu ハイセン ザイリョウ ノ ケンキュウ
• 著者・編者: 大貫仁, 茨城大学 [著]
• 著者標目: 大貫, 仁, 1949- オオヌキ, ジン, 1949- ( 00996255 )典拠; 茨城大学 イバラキ ダイガク ( 00284213 )典拠
• 出版事項: [大貫仁]
• 出版年月日等: 2005-2007; 2008.5
• 出版年（W3CDTF）: 2005; 2007
• 数量: 1冊
• その他のタイトル: 研究種目 基盤研究(A)
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn; eng
• 件名標目: TEG / Cu配線形成 / 硫酸銅純度 / 平均結晶粒径 / 標準偏差 / 分子動力学法 / ナノスクラッチ試験 / エレクトロマイグレーション TEG / Cu ハイセン ケイセイ / リュウサン ドウ ジュンド / ヘイキン ケッショウ リュウケイ / ヒョウジュン ヘンサ / ブンシ ドウリョクガクホウ / ナノスクラッチ シケン / エレクトロマイグレーション
• NDLC: Y151
• 一般注記: 文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書
• 科研費課題番号: 17206071
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y151-H17206071
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000009494874; http://id.ndl.go.jp/bib/000009494874
• 整理区分コード: 214