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製造プロセスで発生する汚れの付着および脱離の分子機構と洗浄操作の高効率化

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製造プロセスで発生する汚れの付着および脱離の分子機構と洗浄操作の高効率化

国立国会図書館請求記号
Y151-H16206076
国立国会図書館書誌ID
000009630249
資料種別
図書
著者
中西一弘, 岡山大学 [著]
出版者
[中西一弘]
出版年
2004-2007
資料形態
ページ数・大きさ等
231p
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

文部科学省科学研究費補助金研究成果報告書

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書誌情報

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資料種別
図書
タイトルよみ
セイゾウ プロセス デ ハッセイスル ヨゴレ ノ フチャク オヨビ ダツリ ノ ブンシ キコウ ト センジョウ ソウサ ノ コウコウリツカ
著者・編者
中西一弘, 岡山大学 [著]
著者標目
中西, 一弘, 1945- ナカニシ, カズヒロ, 1945- ( 00545597 )典拠
岡山大学 オカヤマ ダイガク ( 00296420 )典拠
出版事項
出版年月日等
2004-2007
2008.3
出版年(W3CDTF)
2004
2007
数量
231p
その他のタイトル
研究種目 基盤研究(A)
製造プロセスで発生する付着および脱離の分子機構と洗浄操作の高効率化