Atomic layer deposition applications 4. : 4th symposium on atomic layer deposition applications : 214th meeting of the Electrochemical Society : Oct 2008, Honolulu, HI. (ECS Transactions ; 16 (no. 4))

Atomic layer deposition applications 4. : 4th symposium on atomic layer deposition applications : 214th meeting of the Electrochemical Society : Oct 2008, Honolulu, HI.

(ECS Transactions ; 16 (no. 4))

国立国会図書館請求記号: M17-09-661
国立国会図書館書誌ID: 000009998165

資料種別: 図書

著者: Londergan, Ana R.ほか

出版者: Electrochemical Society

出版年: c2008.

資料形態: 紙

ページ数・大きさ等: ix, 365 p. : ill. ; 23 cm.

NDC: -

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一般注記：: Papers.

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書誌情報

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紙

資料種別: 図書
ISBN: 9781566776509 (Hardcover)
9781607680031 (PDF)
ISSN: 1938-6737 (online)
ISSN（シリーズ）: 1938-5862 (print)
タイトル: Atomic layer deposition applications 4. : 4th symposium on atomic layer deposition applications : 214th meeting of the Electrochemical Society : Oct 2008, Honolulu, HI.
シリーズタイトル: ECS Transactions ; 16 (no. 4)
著者標目: Londergan, Ana R.
Electrochemical Society. Meeting (214th : 2008 : Honolulu, HI)
Symposium on Atomic Layer Deposition Applications (4th : 2008 : Honolulu, HI)
出版事項: Pennington : Electrochemical Society
出版年月日等: c2008.
出版年（W3CDTF）: 2008
数量: ix, 365 p. : ill. ; 23 cm.
並列タイトル等: Dielectric and semiconductor materials, devices, and processing
出版地（国名コード）: US
本文の言語コード: eng
件名標目: Chemical vapor deposition -- Congresses.
Vapor-plating -- Congresses.
NDLC: M17
一般注記: Papers.
書誌注記: Includes bibliographical references and author index.
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: M17-09-661
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 000009998165
http://id.ndl.go.jp/bib/000009998165
OCLC番号: 301734298
https://www.worldcat.org/oclc/301734298
整理区分コード: 215