Photomask technology 2008 : 7-10 October 2008 : Monterey, California, USA. : SPIE conference on photomask technology : 28th international symposium on photomask technology : Oct 2008, Monterey, CA. (SPIE Proceedings ; 7122)

Photomask technology 2008 : 7-10 October 2008 : Monterey, California, USA. : SPIE conference on photomask technology : 28th international symposium on photomask technology : Oct 2008, Monterey, CA.

(SPIE Proceedings ; 7122)

国立国会図書館請求記号: M17-09-674
国立国会図書館書誌ID: 000009998416

資料種別: 図書

著者: Kawahira, Hiroichi.ほか

出版者: SPIE

出版年: c2008.

資料形態: 紙

ページ数・大きさ等: 2 parts : ill. (some col.) ; 28 cm.

NDC: -

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資料に関する注記

一般注記：: Papers.Described as " (...) this year's SPIE Photomask Technology Conference (Oct 6-10, Monterey, CA) ." -- summary of the Friday special session.

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書誌情報

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紙

資料種別: 図書
ISBN（セット）: 9780819473554 (set)
ISSN（シリーズ）: 0277-786X
タイトル: Photomask technology 2008 : 7-10 October 2008 : Monterey, California, USA. : SPIE conference on photomask technology : 28th international symposium on photomask technology : Oct 2008, Monterey, CA.
シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 7122
タイトル標目: Proceedings of SPIE -- the International Society for Optical Engineering ; v. 7122.
著者標目: Kawahira, Hiroichi.
Zurbrick, Larry S.
出版事項: Bellingham : SPIE
出版年月日等: c2008.
出版年（W3CDTF）: 2008
数量: 2 parts : ill. (some col.) ; 28 cm.
出版地（国名コード）: US
本文の言語コード: eng
件名標目: Integrated circuits -- Masks -- Congresses.
Microlithography -- Congresses.
NDLC: M17
一般注記: Papers.
Described as " (...) this year's SPIE Photomask Technology Conference (Oct 6-10, Monterey, CA) ." -- summary of the Friday special session.
書誌注記: Includes bibliographical references and author index.
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: M17-09-674
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 000009998416
http://id.ndl.go.jp/bib/000009998416
OCLC番号: 297175095
https://www.worldcat.org/oclc/297175095
整理区分コード: 215