Photomask and next-generation lithography mask technology 16 : 8-10 April 2009 : Yokohama, Japan. : Apr 2009, Yokohama, Japan. (SPIE Proceedings ; 7379)

Photomask and next-generation lithography mask technology 16 : 8-10 April 2009 : Yokohama, Japan. : Apr 2009, Yokohama, Japan.

(SPIE Proceedings ; 7379)

国立国会図書館請求記号: M17-10-1556
国立国会図書館書誌ID: 000010556322

資料種別: 図書

著者: Hosono, Kunihiro.

出版者: SPIE

出版年: c2009.

資料形態: 紙

ページ数・大きさ等: 1 v. (various pagings) : ill. ; 28 cm.

NDC: -

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一般注記：: Papers.

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書誌情報

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紙

資料種別: 図書
ISBN: 9780819476562
ISSN（シリーズ）: 0277-786X
タイトル: Photomask and next-generation lithography mask technology 16 : 8-10 April 2009 : Yokohama, Japan. : Apr 2009, Yokohama, Japan.
シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 7379
タイトル標目: Proceedings of SPIE -- the International Society for Optical Engineering ; v. 7379.
著者標目: Hosono, Kunihiro.
出版事項: Bellingham : SPIE
出版年月日等: c2009.
出版年（W3CDTF）: 2009
数量: 1 v. (various pagings) : ill. ; 28 cm.
出版地（国名コード）: US
本文の言語コード: eng
件名標目: Masks (Electronics) -- Congresses.
Integrated circuits -- Masks -- Congresses.
X-ray lithography -- Congresses.
Microlithography -- Congresses.
Optoelectronic devices -- Design and construction -- Congresses.
DDC: 621.381531
NDLC: M17
一般注記: Papers.
書誌注記: Includes bibliographical references and author index.
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: M17-10-1556
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 000010556322
http://id.ndl.go.jp/bib/000010556322
OCLC番号: 436221828
https://www.worldcat.org/oclc/436221828
整理区分コード: 215