微細CMOSトランジスタの高性能化プロセスとその評価技術の研究

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: 微細CMOSトランジスタの高性能化プロセスとその評価技術の研究
• タイトルよみ: ビサイ CMOS トランジスタ ノ コウセイノウカ プロセス ト ソノ ヒョウカ ギジュツ ノ ケンキュウ
• 著者・編者: 大塚文雄 [著]
• 著者標目: 大塚, 文雄 オオツカ, フミオ
• 出版事項: [大塚文雄]
• 出版年月日等: [2009]
• 出版年（W3CDTF）: 2009
• 数量: 1冊
• 授与機関名: 筑波大学
• 授与年月日: 平成21年3月25日
• 授与年月日（W3CDTF）: 2009
• 報告番号: 甲第4921号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-2009-L139
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000010613338; http://id.ndl.go.jp/bib/000010613338
• 整理区分コード: 213