Alternative lithographic technologies 2 : 23-25 February 2010 : San Jose, California, United States. : alternative lithographic technologies conference : ALTC : Feb 2010, San Jose, CA. (SPIE Proceedings ; 7637)

Alternative lithographic technologies 2 : 23-25 February 2010 : San Jose, California, United States. : alternative lithographic technologies conference : ALTC : Feb 2010, San Jose, CA.

(SPIE Proceedings ; 7637)

国立国会図書館請求記号: M17-10-3545
国立国会図書館書誌ID: 000010926956

資料種別: 図書

著者: SEMATECH, Inc.ほか

出版者: SPIE

出版年: c2010.

資料形態: 紙

ページ数・大きさ等: 1 v. (various pagings) : ill. ; 28 cm.

NDC: -

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一般注記：: Papers.

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書誌情報

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紙

資料種別: 図書
ISBN: 9780819480514
ISSN（シリーズ）: 0277-786X
タイトル: Alternative lithographic technologies 2 : 23-25 February 2010 : San Jose, California, United States. : alternative lithographic technologies conference : ALTC : Feb 2010, San Jose, CA.
シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 7637
タイトル標目: Proceedings of SPIE -- the International Society for Optical Engineering, 0277-786X ; v. 7637.
著者標目: SEMATECH, Inc.
Herr, Daniel J. C.
出版事項: Bellingham : SPIE
出版年月日等: c2010.
出版年（W3CDTF）: 2010
数量: 1 v. (various pagings) : ill. ; 28 cm.
並列タイトル等: SPIE advanced lithography
出版地（国名コード）: US
本文の言語コード: eng
件名標目: Extreme ultraviolet lithography -- Congresses.
Lithography, Electron beam -- Congresses.
Microlithography -- Industrial applications -- Congresses.
Masks (Electronics) -- Congresses.
LCC: TK7872.M3
NDLC: M17
一般注記: Papers.
書誌注記: Includes bibliographical references and author index.
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: M17-10-3545
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 000010926956
http://id.ndl.go.jp/bib/000010926956
LC control number: 2010459490
https://lccn.loc.gov/2010459490
OCLC番号: 659783697
https://www.worldcat.org/oclc/659783697
整理区分コード: 215