Metrology, inspection, and process control for microlithography 24 : 22-25 February 2010 : San Jose, California, United States. : SPIE advanced lithography symposium : metrology, inspection and process control conference : Feb 2010, San Jose, CA.

• 資料種別: 図書
• ISBN（セット）: 9780819480521 (set)
• ISSN（シリーズ）: 0277-786X
• タイトル: Metrology, inspection, and process control for microlithography 24 : 22-25 February 2010 : San Jose, California, United States. : SPIE advanced lithography symposium : metrology, inspection and process control conference : Feb 2010, San Jose, CA.
• シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 7638
• タイトル標目: Proceedings of SPIE -- the International Society for Optical Engineering, 0277-786X ; v. 7638.
• 著者標目: SEMATECH, Inc.; Raymond, Christopher J.
• 出版事項: Bellingham : SPIE
• 出版年月日等: c2010.
• 出版年（W3CDTF）: 2010
• 数量: 2 parts : ill. ; 28 cm.
• 並列タイトル等: SPIE advanced lithography
• 出版地（国名コード）: US
• 本文の言語コード: eng
• 件名標目: Integrated circuits -- Inspection -- Congresses.; Integrated circuits -- Measurement -- Congresses.; Microlithography -- Congresses.; Process control -- Congresses.
• LCC: TK7874
• DDC: 621.3815/48
• NDLC: M17
• 一般注記: Papers.
• 書誌注記: Includes bibliographical references and author index.
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: M17-10-3724
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000010953761; http://id.ndl.go.jp/bib/000010953761
• LC control number: 2010459448; https://lccn.loc.gov/2010459448
• OCLC番号: 663773608; https://www.worldcat.org/oclc/663773608
• 整理区分コード: 215