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Metrology, inspection, and process control for microlithography 24 : 22-25 February 2010 : San Jose, California, United States. : SPIE advanced lithography symposium : metrology, inspection and process control conference : Feb 2010, San Jose, CA. (SPIE Proceedings ; 7638)

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Metrology, inspection, and process control for microlithography 24 : 22-25 February 2010 : San Jose, California, United States. : SPIE advanced lithography symposium : metrology, inspection and process control conference : Feb 2010, San Jose, CA.

(SPIE Proceedings ; 7638)

国立国会図書館請求記号
M17-10-3724
国立国会図書館書誌ID
000010953761
資料種別
図書
著者
SEMATECH, Inc.ほか
出版者
SPIE
出版年
c2010.
資料形態
ページ数・大きさ等
2 parts : ill. ; 28 cm.
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

Papers.

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書誌情報

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資料種別
図書
ISBN(セット)
9780819480521 (set)
ISSN(シリーズ)
0277-786X
シリーズタイトル
出版事項
出版年月日等
c2010.
出版年(W3CDTF)
2010