Low temperature processing of thin films for flexible electronics. : symposium "novel plasma techniques for low temperature processing of thin films for flexible electronics" : 215th meeting of the Electrochemical Society : May 2009, San Francisco, CA.

• 資料種別: 図書
• ISBN: 9781607680758 (Softcover); 9781566777254 (PDF)
• ISSN: 1938-6737 (online)
• ISSN（シリーズ）: 1938-5862 (print)
• タイトル: Low temperature processing of thin films for flexible electronics. : symposium "novel plasma techniques for low temperature processing of thin films for flexible electronics" : 215th meeting of the Electrochemical Society : May 2009, San Francisco, CA.
• シリーズタイトル: ECS Transactions ; 19 (no. 9)
• タイトル標目: ECS transactions ; v. 19, no. 9.
• 著者標目: Joshi, P.; Todi, R.; Srinivasan, P.; Electrochemical Society. Meeting (215th : 2009 : San Francisco, Calif.)
• 出版事項: Pennington : Electrochemical Society
• 出版年月日等: c2009.
• 出版年（W3CDTF）: 2009
• 数量: v, 53 p. : ill. ; 23 cm.
• 並列タイトル等: Dielectric and semiconductor materials, devices, and processing
• 出版地（国名コード）: US
• 本文の言語コード: eng
• 件名標目: Thin films -- Congresses.; Dielectric films -- Congresses.; Electronic books.
• NDLC: M17
• 一般注記: Papers.
• 書誌注記: Includes bibliographical references and author index.
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: M17-11-2202
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000011199613; http://id.ndl.go.jp/bib/000011199613
• OCLC番号: 373874710; https://www.worldcat.org/oclc/373874710
• 整理区分コード: 215