Design of higher-k gate dielectrics and effective work function control by interface dipole formation

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: Design of higher-k gate dielectrics and effective work function control by interface dipole formation
• 著者・編者: Hiroaki Arimura [著]
• 著者標目: 有村, 拓晃 アリムラ, ヒロアキ
• 出版事項: [Hiroaki Arimura]
• 出版年月日等: [2011]
• 出版年（W3CDTF）: 2011
• 数量: 1冊
• 並列タイトル等: 超高誘電率ゲート絶縁膜の設計と界面ダイポール形成による実効仕事関数制御 チョウ コウユウデンリツ ゲート ゼツエンマク ノ セッケイ ト カイメン ダイポール ケイセイ ニ ヨル ジッコウ シゴト カンスウ セイギョ
• 授与機関名: 大阪大学
• 授与年月日: 平成23年3月25日
• 授与年月日（W3CDTF）: 2011
• 報告番号: 甲第14878号
• 学位: 博士 (工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: eng
• NDLC: UT51
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-2011-B295
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 000011210889; http://id.ndl.go.jp/bib/000011210889
• 整理区分コード: 213