Photomask and next-generation lithography mask technology 20 : 16-18 April 2013 : Yokohama, Japan : Apr 2013, Yokohama, Japan.

• 資料種別: 図書
• ISBN: 9780819494917 (paperback)
• ISSN（シリーズ）: 0277786X
• タイトル: Photomask and next-generation lithography mask technology 20 : 16-18 April 2013 : Yokohama, Japan : Apr 2013, Yokohama, Japan.
• シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 8701
• 著者標目: Kato, Kokoro.
• 出版事項: Bellingham : SPIE
• 出版年月日等: c2013.
• 出版年（W3CDTF）: 2013
• 数量: 1 v. (various pagings)
• 形態の詳細: ill.
• 大きさ: 28 cm.
• 出版地（国名コード）: US
• 本文の言語コード: eng
• 件名標目: Masks (Electronics)--Congresses.; Integrated circuits--Masks--Congresses.; X-ray lithography--Congresses.; Microlithography--Congresses.; Optoelectronic devices--Design and construction--Congresses.; Mask technology; Photomask
• NDLC: M17
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: Papers.
• 書誌注記: Includes bibliographical references and author index.
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: M17-14-654
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 024800479; http://id.ndl.go.jp/bib/024800479
• OCLC番号: 859554859; https://www.worldcat.org/oclc/859554859
• 目録規則: 英米目録規則
• 整理区分コード: 215