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Photomask and next-generation lithography mask technology 20 : 16-18 April 2013 : Yokohama, Japan : Apr 2013, Yokohama, Japan. (SPIE Proceedings ; 8701)

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Photomask and next-generation lithography mask technology 20 : 16-18 April 2013 : Yokohama, Japan : Apr 2013, Yokohama, Japan.

(SPIE Proceedings ; 8701)

国立国会図書館請求記号
M17-14-654
国立国会図書館書誌ID
024800479
資料種別
図書
著者
Kato, Kokoro.
出版者
SPIE
出版年
c2013.
資料形態
ページ数・大きさ等
1 v. (various pagings) ; 28 cm.
NDC
-
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資料に関する注記

一般注記:

Papers.

形態の詳細:

ill.

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書誌情報

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資料種別
図書
ISBN
9780819494917 (paperback)
ISSN(シリーズ)
0277786X
シリーズタイトル
著者標目
出版事項
出版年月日等
c2013.
出版年(W3CDTF)
2013
数量
1 v. (various pagings)