不揮発性メモリ用Ge-Te-X(X:Si,Cu)系薄膜の相変化挙動

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: 不揮発性メモリ用Ge-Te-X(X:Si,Cu)系薄膜の相変化挙動
• タイトルよみ: フキハツセイ メモリヨウ Ge-Te-X (X : Si , Cu) ケイ ハクマク ノ ソウ ヘンカ キョドウ
• 著者・編者: 齊藤雄太 [著]
• 著者標目: 齊藤, 雄太 サイトウ, ユウタ
• 出版事項: [齊藤雄太]
• 出版年月日等: [2013]
• 出版年（W3CDTF）: 2013
• 数量: 1冊
• 授与機関名: 東北大学
• 授与年月日: 平成25年3月27日
• 授与年月日（W3CDTF）: 2013
• 報告番号: 甲第15249号
• 学位: 博士(工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• NDLC: UT51
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-2013-H452
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 024931479; http://id.ndl.go.jp/bib/024931479
• 整理区分コード: 213