Feature profile evolution in plasma processing using on-wafer monitoring system (Springer briefs in applied sciences and technology)

Feature profile evolution in plasma processing using on-wafer monitoring system

(Springer briefs in applied sciences and technology)

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資料種別: 図書
ISBN: 978-4-431-54794-5
ISSN（シリーズ）: 2191-530X
タイトル: Feature profile evolution in plasma processing using on-wafer monitoring system
タイトルよみ: Feature profile evolution in plasma processing using on-wafer monitoring system
著者・編者: Seiji Samukawa [著]
シリーズタイトル: Springer briefs in applied sciences and technology
著者標目: 寒川, 誠二サムカワ, セイジ ( 001164613 )典拠
出版事項: Tokyo : Springer
出版年月日等: c2014
出版年（W3CDTF）: 2014
数量: 40p
大きさ: 24cm
出版地（国名コード）: JP
本文の言語コード: eng
NDLC: MC241
対象利用者: 一般
書誌注記: 文献あり
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: MC241-B32
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 025327798
http://id.ndl.go.jp/bib/025327798
全国書誌番号: 22385106
目録規則: 日本目録規則1987年版改訂版
整理区分コード: 111