Extreme ultraviolet (EUV) lithography VI : 23-26 February 2015 : San Jose, California, United States : 2015 SPIE advanced lithography symposium : 2015 SPIE EUVL 6 conference : Feb 2015, San Jose, CA.

• 資料種別: 図書
• ISBN: 162841524X
• ISBN（セット）: 9781628415247 (set)
• ISSN（シリーズ）: 0277-786X
• タイトル: Extreme ultraviolet (EUV) lithography VI : 23-26 February 2015 : San Jose, California, United States : 2015 SPIE advanced lithography symposium : 2015 SPIE EUVL 6 conference : Feb 2015, San Jose, CA.
• シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 9422
• タイトル標目: Proceedings of SPIE--the International Society for Optical Engineering ; v. 9422. 0277-786X
• 著者標目: Wood, Obert R. (Obert Reeves), 1943-; Panning, Eric M.
• 出版事項: Bellingham, Washington, USA : SPIE (出版)
• 出版年月日等: [2015]; 著作権日付 : ©2015
• 出版年（W3CDTF）: 2015
• 数量: 2 volumes
• 形態の詳細: illustrations
• 大きさ: 28 cm.
• 並列タイトル等: Extreme ultraviolet (EUV) lithography 6 : 23-26 February 2015 : San Jose, California, United States; SPIE. advanced lithography
• 出版地（国名コード）: US
• 本文の言語コード: eng
• ジャンル・形式用語: Conference proceedings.
• 表現種別: text
• 機器種別: unmediated
• キャリア種別: volume
• 件名標目: Extreme ultraviolet lithography--Congresses.; Ultraviolet radiation--Industrial applications--Congresses.; Lasers--Industrial applications--Congresses.; Photolithography--Congresses.; Optical coatings--Congresses.; Extreme ultraviolet lithography.; Lasers--Industrial applications.; Optical coatings.; Photolithography.; Ultraviolet radiation--Industrial applications.
• LCC: TK7872.M3
• NDLC: M17
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: Papers.
• 書誌注記: Includes bibliographical references and author index.
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: M17-15-2585
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 026523573; http://id.ndl.go.jp/bib/026523573
• 目録規則: RDA
• 整理区分コード: 215