Advanced etch technology for nanopatterning IV : 23-25 February 2015 : San Jose, California, United States : SPIE etch conference : international symposium on advanced lithography : Feb 2015, San Jose, CA.

• 資料種別: 図書
• ISBN: 9781628415308; 1628415304
• ISSN（シリーズ）: 0277-786X
• タイトル: Advanced etch technology for nanopatterning IV : 23-25 February 2015 : San Jose, California, United States : SPIE etch conference : international symposium on advanced lithography : Feb 2015, San Jose, CA.
• シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 9428
• タイトル標目: Proceedings of SPIE--the International Society for Optical Engineering ; v. 9428. 0277-786X
• 著者標目: Lin, Qinghuang, 1963-; Engelmann, Sebastian U.
• 出版事項: Bellingham, Washington, USA : SPIE (出版)
• 出版年月日等: [2015]; 著作権日付 : ©2015
• 出版年（W3CDTF）: 2015
• 数量: 1 volume (various pagings)
• 形態の詳細: illustrations
• 大きさ: 28 cm.
• 並列タイトル等: Advanced etch technology for nanopatterning 4 : 23-25 February 2015 : San Jose, California, United States; SPIE. advanced lithography
• 出版地（国名コード）: US
• 本文の言語コード: eng
• ジャンル・形式用語: Conference papers and proceedings.
• 表現種別: text
• 機器種別: unmediated
• キャリア種別: volume
• 件名標目: Plasma etching--Congresses.; Semiconductors--Etching--Congresses.; Nanoelectronics--Congresses.; Nanoelectronics.; Plasma etching.; Semiconductors--Etching.
• LCC: TA2005
• NDLC: M17
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: Papers.; Described as "For the first time, our conference lasted two full days ..."--Introduction.
• 書誌注記: Includes bibliographical references and author index.
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: M17-15-2754
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 026560284; http://id.ndl.go.jp/bib/026560284
• 目録規則: RDA
• 整理区分コード: 215