Process development of hot-wire-assisted ALD dedicated to high quality Ni/Ru thin films for microelectronic devices

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: Process development of hot-wire-assisted ALD dedicated to high quality Ni/Ru thin films for microelectronic devices
• 著者・編者: Yuan Guangjie [著]
• 著者標目: 袁, 光杰 ユアン, グアンジ
• 出版事項: [Yuan Guangjie]
• 出版年月日等: [2014]
• 出版年（W3CDTF）: 2014
• 数量: 1冊
• 並列タイトル等: 微細電子デバイス用高品質Ni/Ru薄膜形成を目指したホットワイヤーALDプロセス開発 ビサイ デンシ デバイスヨウ コウヒンシツ Ni
• 授与機関名: 東京大学
• 授与年月日: 平成26年9月26日
• 授与年月日（W3CDTF）: 2014
• 報告番号: 甲第31041号
• 学位: 博士(工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: eng
• NDLC: UT51
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-2015-C662
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 027265906; http://id.ndl.go.jp/bib/027265906
• 整理区分コード: 213