水彩画光を奏でるために : あべとしゆきマスキングノート

• 資料種別: 図書
• ISBN: 978-4-8170-2071-0
• タイトル: 水彩画光を奏でるために : あべとしゆきマスキングノート
• タイトルよみ: スイサイガ ヒカリ オ カナデル タメ ニ : アベ トシユキ マスキング ノート
• 著者・編者: あべとしゆき 著
• 著者標目: あべ, としゆき, 1959- アベ, トシユキ, 1959- ( 001129307 )典拠
• 出版事項: 東京 : 日貿出版社
• 出版年月日等: 2016.10
• 出版年（W3CDTF）: 2016
• 数量: 127p
• 大きさ: 26cm
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: 水彩画 技法
• NDC9版: 724.4 : 絵画材料・技法
• NDLC: Y78
• 対象利用者: 一般
• 入手条件・定価: 2200円
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: Y78-L4702
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 027625348; http://id.ndl.go.jp/bib/027625348
• 全国書誌番号: 22799339
• トーハンMARC番号: 33510712
• 目録規則: 日本目録規則1987年版改訂版
• 整理区分コード: 115

• 要約等: 人気シリーズ待望の第三弾は多くのリクエストを頂いた、あべとしゆき流マスキングの使い方。経験や実験に基づく最新情報が満載。（提供元: 出版情報登録センター（JPRO））
• 著者紹介: あべ としゆき 1959年 山形県酒田市に生まれる。新聞社デザイナー、美術教師を経て2008年より水彩画制作を中心にした活動を始める。 2010年 第13回内藤秀因記念水彩画展大賞 2011年 第99回日本水彩展 上野の森美術館賞 2012年 第2回日本透明水彩会展(横浜) 以後毎年出品 2012年...